1：鋁型材陽極氧化膜的膜厚測量方法

陽極氧化膜或陽極氧化復(fù)合膜的厚度測量方法有渦流測量方法和顯微鏡截面測量方法；顯微鏡截面測量法是破壞性測量方法，也就是從測量對象上截取試片，將測量部位截面拋光成鏡面后，使用測微儀器讀取厚度的方法，能夠比較精確地測量膜層厚度；可是，在實(shí)際的鋁型材產(chǎn)品中，由于不能破壞鋁型材進(jìn)行測量，因此常采用無損測量方法—渦流測量法；

（鋁型材陽極氧化膜渦流測量方法示意圖）

渦流測量方法不像顯微鏡截面測量方法，在測量前不需要對鋁型材進(jìn)行復(fù)雜的處理，只要對渦流測厚儀進(jìn)行適當(dāng)校正就可以進(jìn)行測量了，因此渦流測量方法使用廣泛；

2：渦流測厚儀的原理

上圖所示為渦流測量方法的測量原理，內(nèi)設(shè)高頻感應(yīng)線圈的探頭中通高頻電流，探頭接近試片時(shí)，因高頻電流產(chǎn)生的電磁感應(yīng)，在鋁型材基體上產(chǎn)生渦流；

這種渦流的流動(dòng)方向起到妨礙探頭感應(yīng)線圈的電流通過的作用；這種作用的大小程度就表示探頭與鋁型材基體間的距離不同，探頭與鋁型材基體間的距離也就是測量的膜厚；測定鋁型材陽極氧化膜的膜厚時(shí)，使用非磁性金屬上絕緣膜厚度測定的儀器；

高頻電流容易通過導(dǎo)體的表面，這種現(xiàn)象稱為表面效應(yīng)；這種表面效應(yīng)產(chǎn)生的電流滲透深度與高頻電流的頻率和鋁型材基體的電導(dǎo)率有關(guān)，鋁型材基體厚度至少為該滲透深度的2.5倍；探頭中通過的高頻電流的頻率因測量儀的制造商的不同而有差別，因此這個(gè)滲透深度也因各儀器廠商而存在差別；

3：鋁型材陽極氧化膜厚測量時(shí)的注意事項(xiàng)

影響測量結(jié)果的主要因素有鋁型材基體材質(zhì)、鋁型材形狀、測量儀及測量者相關(guān)的因素等；測定值根據(jù)這些因素如何變化？需要事先掌握這些因素；采用A1050P的鋁型材基體校準(zhǔn)測量儀為0，測量其他材質(zhì)板材的陽極氧化膜的厚度如下圖所示，同樣使用A1050P的鋁型材基材校正為0，接著使用各種粒度的砂紙打磨相同材料表面時(shí)，表面粗糙度與外觀膜厚的關(guān)系如下圖所示；另外，手持探頭操作時(shí)，容易產(chǎn)生由于探頭溫度的變化和探頭壓角引起的偏差，為了降低這些偏差，使用探頭支架是非常有效的；探頭形成用一定壓力使探頭的尖端壓在鋁型材的表面結(jié)構(gòu)；測試較軟涂層時(shí)，要確認(rèn)涂層是否會(huì)因探頭下的壓力而產(chǎn)生凹陷；

（各種鋁型材基體得到的陽極氧化膜厚度）

①鋁型材基體材質(zhì)相關(guān)因素：電導(dǎo)率、含金屬間化合物的金相組織；

②鋁型材基體形狀相關(guān)因素：基體厚度、距端部距離、表面彎曲狀態(tài)、表面粗糙度（含氧化膜表面）；

③測量儀及測量者相關(guān)因素：探頭溫度、探頭壓力、探頭壓下角度、探頭的清潔度；

4：渦流測厚儀的管理及校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)板

使用渦流測厚儀時(shí)，儀器校準(zhǔn)是前提；在渦流測厚儀的校準(zhǔn)中，必須使用與試驗(yàn)材料相同材質(zhì)及表面粗糙度的鋁型材基體；曲面或端面位置影響測量，需要使用同一基體和位置進(jìn)行校準(zhǔn)方可測量；

JIS H8680-2-1998附錄中記載了渦流測厚儀測量值重現(xiàn)性的功能檢定，為校準(zhǔn)儀器制作校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)板、制作管理用標(biāo)準(zhǔn)板即陽極氧化膜厚度標(biāo)準(zhǔn)試樣；使用這種管理用標(biāo)準(zhǔn)板進(jìn)行儀器的管理，一定的管理幅度內(nèi)的測量值的確認(rèn)是最重要的；在實(shí)際試驗(yàn)中，使用這種管理用標(biāo)準(zhǔn)板得到標(biāo)準(zhǔn)時(shí)，最初使用管理用標(biāo)準(zhǔn)板校準(zhǔn)過的儀器測定校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)板的陽極氧化膜厚度，接著從同一批次中取出一片校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)板，用顯微鏡截面法測定其陽極氧化膜厚度；要求計(jì)算出這種校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)板的測量值與用渦流測量法測定值之間的修正系數(shù)，使用修正系數(shù)得到修正后的測量值；管理用的標(biāo)準(zhǔn)板或含塑料膜的校準(zhǔn)用標(biāo)準(zhǔn)板因使用時(shí)間長而老化，因此希望根據(jù)使用頻率更新；